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UVFAB Systems清洗機 HELIOS-600 儀器

更新時間:2026-08-10

簡要描述:

UVFAB Systems清洗機 HELIOS-600 儀器紫外線臭氧清洗系統(tǒng)
HELIOS-600型
UVFAB的紫外線臭氧清潔系統(tǒng)提供了一種簡單、廉價、快速的方法,可以在大多數(shù)基材上獲得無有機污染物的超清潔表面,如石英、硅、金、鎳、鋁、砷化鎵、氧化鋁、載玻片等。在基材清潔后幾分鐘內(nèi),使用紫外線臭氧清潔劑可以很容易地實現(xiàn)超清潔表面。
紫外線臭氧清潔過程是一種光敏氧化過程,其中光致抗蝕劑、樹脂、人

產(chǎn)品廠地:北京市點擊量:1125
品牌其他品牌應(yīng)用領(lǐng)域能源,道路/軌道/船舶,包裝/造紙/印刷

UVFAB Systems清洗機 HELIOS-600 儀器

紫外線臭氧清洗系統(tǒng)

HELIOS-600型

UVFAB的紫外線臭氧清潔系統(tǒng)提供了一種簡單、廉價、快速的方法,可以在大多數(shù)基材上獲得無有機污染物的超清潔表面,如石英、硅、金、鎳、鋁、砷化鎵、氧化鋁、載玻片等。在基材清潔后幾分鐘內(nèi),使用紫外線臭氧清潔劑可以很容易地實現(xiàn)超清潔表面。

紫外線臭氧清潔過程是一種光敏氧化過程,其中光致抗蝕劑、樹脂、人體皮膚油、清潔溶劑殘留物、硅油和助焊劑的污染物分子被短波紫外線輻射的吸收激發(fā)和/或解離。當(dāng)分子氧被185nm紫外線波長分解,臭氧被254nm紫外線波長解離時,同時產(chǎn)生原子氧。254nm的紫外線輻射被大多數(shù)碳氫化合物和臭氧吸收。污染物分子的這種激發(fā)產(chǎn)物與原子氧反應(yīng)形成更簡單、更易揮發(fā)的分子,這些分子從表面解吸。因此,當(dāng)兩種紫外線波長都存在時,原子氧會不斷產(chǎn)生,臭氧會不斷形成和破壞。使用紫外線臭氧清潔劑,可以在幾分鐘內(nèi)實現(xiàn)近乎原子級的清潔表面,而不會對您的設(shè)備造成任何損壞。

紫外線臭氧清洗系統(tǒng)

HELIOS-600型

UVFAB Systems生產(chǎn)的HELIOS-600型紫外線臭氧清潔劑

高強度紫外格柵燈(185nm+254nm)

6x6x1.5英寸(150x150mm)抽屜樣品臺

帶不銹鋼反射器的紫外線格柵燈

抽屜安全聯(lián)鎖裝置

低擁有成本2英寸外徑排氣口

室溫下的大氣過程

200mm紫外線臭氧清洗系統(tǒng)

UV-208型

高密度臭氧產(chǎn)生紫外格柵燈

紫外燈和樣品臺之間的距離可變

最多可處理8英寸x 8英寸(200毫米)的樣品

低溫晶圓清洗

占地面積小、緊湊

抽屜裝載機構(gòu)

數(shù)字處理定時器、清洗定時器和紫外線燈小時計數(shù)器

300mm紫外線臭氧清洗系統(tǒng)

型號UV-312

300mm紫外線臭氧清洗機,型號UV-312

高密度臭氧產(chǎn)生紫外格柵燈

紫外燈和樣品臺之間的距離可變

最多可處理12英寸x 12英寸(300毫米)的樣品

低溫晶圓清洗

占地面積小、緊湊

抽屜裝載機構(gòu)

數(shù)字處理定時器、清洗定時器和紫外線燈小時計數(shù)器



UVFAB Systems清洗機 HELIOS-600 儀器

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